在半導體芯片制造領域，光刻膠作為關鍵材料，其生產與使用過程會產生大量高濃度有機廢水。這類廢水成分復雜，含有光刻膠樹脂、光敏劑、特定溶劑及重金屬離子，本文將介紹一家專注半導體行業廢水處理的環保公司——蘇州依斯倍環保裝備科技有限公司，看他家是怎么處理這類廢水的。

蘇州依斯倍環保裝備科技有限公司是一家來自荷蘭外商投資的環保企業于2011年在蘇州工業園區正式成立，致力于為工業廢水處理提供完整的循環利用及零排放解決方案，業務板塊涵蓋EPC系統交付、提標改造升級、廢水站運維托管等。依斯倍一直專注于工業廢水處理深度回用與資源化利用技術的研發，為客戶降低成本，努力構建綠色生態循環系統，以“減量化”、“資源化”和“極小化”的“3R”原則為循環系統實施的核心。依斯倍工業廢水循環利用及零排放處理系統已廣泛應用于新能源汽車、機器人制造、航天航空、表面處理電鍍、涂裝生產線、電子半導體等行業。

光刻膠廢水的核心處理難點在于其高化學需氧量、高毒性及難生物降解性。傳統處理方法中，混凝沉淀法是預處理的常用手段：通過投加聚合氯化鋁、聚丙烯酰胺等混凝劑，使廢水中的膠體顆粒與有機污染物形成絮體，經沉淀分離降低廢水濁度與部分化學需氧量。該技術操作簡單、成本較低，但對溶解性有機物去除率有限，需與后續工藝配合使用。

高級氧化技術是破解難降解有機物的關鍵環節。其中，芬頓氧化法通過特定二價金屬離子與過氧化氫反應生成具有強氧化性的羥基自由基，可有效分解光刻膠中的長鏈高分子化合物；而臭氧氧化法則利用臭氧的氧化特性，破壞光敏劑等有毒成分的分子結構，提升廢水可生化性。某半導體企業應用“芬頓氧化+臭氧催化”組合工藝后，廢水化學需氧量去除率從預處理后水平大幅提升，為后續生物處理創造了條件。

生物處理技術作為深度處理單元，在降低運行成本的同時實現污染物的徹底降解。由于光刻膠廢水毒性較高，需采用生物馴化技術：通過逐步提高進水濃度，篩選適應高毒性環境的微生物菌群，構建耐沖擊的生物處理系統。目前主流的膜生物反應器將生物降解與膜分離結合，不僅強化了微生物對有機污染物的降解效率，還能截留懸浮固體，使出水濁度穩定保持在較低水平，滿足循環利用要求。

隨著半導體產業向高精度、高產能方向發展，光刻膠廢水處理技術正朝著“資源化、低能耗”方向升級。例如，部分企業嘗試將處理后的廢水用于冷卻系統，實現水資源循環利用；同時，新型光催化材料的研發也為高效降解光刻膠污染物提供了新路徑。

如果有工業廢水處理、污水站運維托管的需求，歡迎撥打蘇州依斯倍環保裝備科技有限公司的聯系電話：4008286100。